Uma nova geração de computadores com capacidade de processamento mais veloz poderá ser criada no futuro usando nanocircuitos de grafeno, material mais promissor para substituir o silício. Pesquisadores do Instituto de Tecnologia da Geórgia, Laboratório de Pesquisa Naval e Universidade de Illinois, dos Estados Unidos, conseguiram desenvolver um processo simples e eficiente para criar nanofios baseado na técnica de nanolitografia termoquímica (TCNL), ajustando as propriedades eletrônicas do óxido de grafeno e permitindo transformá-lo de um material isolante em um condutor. Outra pesquisa na mesma área, feita no Instituto Politécnico Rensselaer, também nos Estados Unidos, resultou em um novo método de produção de grafeno. A novidade é que a fabricação é feita em temperatura ambiente, gastando menos energia. Os autores da descoberta acreditam que o avanço permitirá uma produção em larga escala do nanomaterial. Desde a descoberta do grafeno em 2004, na forma de folhas com um átomo de espessura, pesquisadores do mundo todo buscam uma forma economicamente viável de produzir o material em grandes quantidades e com custo razoável.
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