Um novo processo de padronização química combinando um auto-arranjo molecular com a litografia convencional (antiga técnica de gravação) para criar superfícies multifuncionais em sensores e outros dispositivos que exijam precisão molecular foi desenvolvido por um grupo de pesquisadores da Universidade do Estado da Pensilvânia, nos Estados Unidos. O processo permite a criação de superfícies com diversas funcionalidades químicas e promete incorporar a litografia usada atualmente para a produção de semicondutores. A nova técnica, que poderá ter aplicações na química aplicada e na bioquímica, foi descrita na edição de 22 de dezembro de 2006 da revista Advanced Materials. A técnica usa monocamadas auto-organizadas – filmes químicos compostos por uma densa molécula – para construir uma camada sobre uma superfície. Um revestimento fotolitográfico – impressão de um circuito eletrônico por meio de luz -funciona como uma barreira e impede interações das moléculas entre as monocamadas.
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