Fujitsu LaboratoriesFuturo nos transistores de grafenoFujitsu Laboratories
O grafeno, material semicondutor feito de folhas de carbono com apenas um átomo de espessura, é a aposta da empresa japonesa Fujitsu para a produção de circuitos eletrônicos. Esse material é considerado por muitos pesquisadores como o sucessor do silício quando os limites de miniaturização dos atuais componentes microeletrônicos forem atingidos. A Fujitsu conseguiu comprovar a viabilidade de fabricar chips de grafeno em escala industrial empregando equipamentos e processos normalmente utilizados pela indústria de semicondutores, como, por exemplo, a técnica de deposição de vapor químico em baixa temperatura. Os pesquisadores da empresa reduziram a temperatura de fabricação do grafeno dos habituais 800ºC a 1.000ºC para 650ºC, o que permitiu a construção de transistores sobre vários substratos. Uma importante característica do grafeno, material descoberto apenas em 2004 na Inglaterra, é sua elevada mobilidade de elétrons comparada com o silício. Essa característica poderá proporcionar uma nova geração de transistores, bem mais rápidos do que os atuais. O uso do grafeno pode ser tanto em camada única (uma espécie de folha de átomos de carbono) quanto em multicamadas, sempre em escala nanométrica.
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