Pesquisadores da Universidade Harvard, nos Estados Unidos, em colaboração com colegas das universidades alemãs de Jena, Gottingen e Bremen desenvolveram uma técnica que poderá ser utilizada na fabricação de circuitos integrados eletrônicos e fotônicos com nanofios. Embora os pesquisadores consigam sintetizar nanofios semicondutores – estruturas com o diâmetro aproximado de 1 milésimo da espessura de um fio de cabelo – em grande quantidade recorrendo a métodos químicos economicamente viáveis, estratégias confiáveis para montá-los em circuitos integrados funcionais permanecem como um grande desafio a ser superado. Para criar a nova tecnologia, os pesquisadores de Harvard recorreram a uma técnica conhecida como spin-on glass (SOG), já empregada na fabricação de chips, e à fotolitografia, método que consiste na gravação de informações em um determinado substrato com uso de luz. Para demonstrar que a nova tecnologia funciona em larga escala, os pesquisadores fabricaram nanoLEDs ultravioleta colocando nanofios de óxido de zinco em uma placa de silício.
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